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　　搪玻璃反應釜在設備的制造過程中，會因為卷筒、沖壓、焊接等工藝產生大量的內應力，這些應力在搪燒底釉前就應采用熱處理進行消除，這樣才能夠減少搪燒次數，確保搪玻璃設備的生產效率。給反應釜設備搪燒二氧化硅玻璃需要按照工藝規(guī)范進行。

　　1、搪玻璃反應釜瓷層厚度規(guī)定是0.8-2mm，搪燒的次數應該在5-7次。瓷層的厚度，一般要求1mm左右。具體根據使用要求而定，如考慮傳熱，應使瓷釉層薄些，不需傳熱而使用的介質腐蝕牲嚴重時，瓷釉層厚些。要達到規(guī)定瓷厚，產品上的面釉要噴搪多遍。每遍厚度以薄一些為好。但考慮生產效率，也不能太薄，一般以控制每遍厚度增加0.2mm為佳。

　　2、為保證搪燒質量，每噴搪一遍，都要經過檢查，檢查瓷面上是否有暗泡、針孔等，一經查到就應打磨開進行修補。對于直通金屬表面的針孔和暗泡要磨挖，甚至補焊。凡見底金屬的修補處，需要補噴底釉。上述修補程序是每個噴搪操作者需要掌握的。

　　3、設備在制造過程中產生的應力除用退火的方式釋放外，還要在設備搪燒好后至少靜置15天，成品設備在靜置期沒有爆瓷方可出廠。

　　需要補充一點的是，減少搪燒次數是在滿足技術要求的前提下完成的，有許多的企業(yè)在生產時為了減少搪燒次數而增大每次噴釉的厚度。這樣在搪燒時玻璃層容易出現燒不透、夾生等問題，搪玻璃層的耐腐蝕性能得不到保障，且層與層之間結合不好，容易爆瓷，所以一定要按照搪瓷工藝規(guī)程進行操作。